中国 Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. 企業ニュース

仕事はいかに圧力調整器をするか。   圧力調整器の選択に関しては市場の選択の意外にも大きい数がある。しかし真実は、かなうあらゆる適用の独特なあらゆるタイプの圧力調整器に独特な機能が、その結果あることであり。Woflyで、私達は私達の顧客全員におよび必要性をベスト満たす1つを選ぶ方法なってそこにあるさまざまな種類の調整装置について知識があるようにほしい。     異なった圧力調整器のタイプ   ステンレス鋼の圧力のための調整装置   圧力減少として知られている単段の圧力調整器はより大きい吸入圧（P1）を受け入れ、より低い管理された出口圧力（P2）に下げるために作られる。   時々「流出」の調整装置として知られている背圧の調整装置は、エンド ユーザーに管理された、信頼できるライン圧力を与えている間吸入圧（P1）の定数を保つために作られる。   二重段階の圧力調整器はCylinder Pressureをより高い吸入圧（P1）を受け入れ、より低い管理された出口圧力（P2）に減らさせる電話した。ガス ポンプが減ると同時に制御正確さの高レベルを提供するためには、これらはガス ポンプかびんに頻繁に置かれる。     専門の調整装置:これらは前述の主義の使用するが、でしたり小さいスペースのためのミニチュアか密集した版、空気の試験航空作戦のためのドーム荷を積まれた設計、高圧設計、3.00までCvのための高い流れの設計、高温設計、のための、およびもっとクロスオーバー多岐管自動シリンダーびんの切換えのような特定の適用のために6,000PSIG制御までのための+230°Cまでのための、作成される調整装置。     いかに圧力調整器の仕事     媒体は調整装置を下げる私達の普及したR11シリーズ単段圧力の1つの取入口港を通して装置を書き入れるとき、生気の赤い区域見られるように座席区域のポペットの下に泡堅い保持される。出口圧力の調整された解放はポペットにダイヤフラムを（手動でダイヤフラムを活動化させる）強制する手のノブで緩和によって生気の青い区域描写されるようにそれから達成される。

フェルールのコネクターの構成     AFKのフェルールのタイプ管のコネクターは4部で構成される:前部フェルール、背部フェルール、フェルールのナットおよびコネクター ボディ。 管のコネクターが正しい取付けの下で完全に密封されることを高度の設計および厳密な質は保障する。     フェルールのコネクターの運営原則   フェルールの接合箇所を組み立てるとき、主要なシールを形作るために前部フェルールが共同ボディおよびフェルールおよび次に押されるフェルールにフェルールの強いグリップを形作るために内部蝶番を付けられる。後部フェルールの幾何学はフェルールの放射状の放出に軸動きを変形できる操作の間に小さいアセンブリ トルクだけ要求しているの生成を促す高度の設計の蝶番クランプ行為。   AFKのフェルールのコネクターの特徴   1.Active負荷および二重フェルールの設計 2.Easyおよび正しい取付け 3.Theトルクは取付けの間にフェルールに送信されない 4。完全に対応する   二重フェルールの特徴   二重フェルールはフェルールの魅惑的な機能から密封機能を分け、各フェルールは対応する機能のために最大限に活用される。   前部フェルールがシールを形作るのに使用されている:   1. コネクター ボディとのシーリング 2. フェルールの外の直径を密封しなさい。   ナットが回るとき、後部フェルールは:   1. 前部フェルールを軸方向に押しなさい 2. 把握のための放射状の方向に沿う有効な締め金で止める袖を加えなさい

ダイヤフラム弁の部品は次の通りある:   弁カバー   弁カバーはトップ・カバーとして役立ち、バルブ本体にボルトで固定される。それはダイヤフラム弁の圧縮機、弁茎、ダイヤフラムおよび他の非ぬれる部品を保護する。   バルブ本体   バルブ本体は直接流動パス管によって接続される部品である。バルブ本体の流れ区域はダイヤフラム弁のタイプによって決まる。   バルブ本体およびボンネットは固体、堅いおよび防蝕材料から成っている。 ダイヤフラム   ダイヤフラムはバルブ本体の底に接触するために液体の道を制限するか、または妨げるために下方に動く非常に伸縮性があるポリマー ディスクのなされる。流量が増加するべきならかまたは弁が十分に開くべきならダイヤフラムは上がる。ダイヤフラムの下の流量。但し、ダイヤフラムの材料そして構造が原因で、このアセンブリは弁の実用温度そして圧力を限る。それはまた機械特性が使用の間に減るので規則的に取り替えられなければならない。   ダイヤフラムは流れ媒体からの非ぬらされた部分（圧縮機、弁茎およびアクチュエーター）を隔離する。従って、固体および粘性液体はダイヤフラム弁の作動のメカニズムと干渉してがまずない。これはまた腐食から非ぬらされた部品を保護する。その一方で、流動準備中は弁を作動させるのに使用された潤滑油によって汚染されない。

国民の基幹産業として、半導体工業は活気づいている。包装の質の安定性の保障によるだけ半導体製品の工程で、最終的な収穫はでき、集積回路の信頼性は保証される。高度の生産ラインのための必要性に加えて、包装の質を保障するため、破片のR & Dおよび生産および部品の包装は両方安全な、信頼できる電子特別なガス システムから分離不可能である。 技術的な相談を、全面的な計画、システム設計、指定装置、プレハブの部品は、プロジェクトの場所の取付けおよび構造、総合システムのテスト、維持および他の設計の技術援助統合し、プロダクト、Wofeiの技術を支えるハイテクな企業として顧客にを与えることができる:電子特別なガス システムに、実験室のガスの循環方式、産業中心にされたガス供給 システム、高い純度のガスおよび特別なプロセス ガスの二次配管システム、化学伝達システム、純粋な給水系統、等Wofeiの技術のバルク ガス（液体の）システム ガス塗布工学はガス・パイプライン工学弁で優秀な設計および製造の経験がある、従ってブランドの評判、製品とサービスは激賞。   特別なガス システムが特別なガスの安全使用を保障するのに使用されている。特別なガスのガスの特性が企業のプロセス必要性を満たすことができるので半導体、電子工学、液晶の、光起電および太陽電池工業で広く利用されて、半導体工業の工程で重大である。但し、特別なガスのほとんどはSiH4、NF3、等のような危ないガス、である。従って、特別なガスの安全使用を保障することは特別なガス システムの存在の重大さである。特別なガス システムは特別なガス装置、特別なガス・パイプラインおよびターミナルで一般に構成され、特別なガス ホルダは特別なガス システムの中心装置である。   Wofeiの技術のフル オートマチックのガス ホルダは制御主体としてPLCを取ったり、システム表示および設定のためのタッチ画面、および異なったパネルの設計のマッチに太陽エネルギーおよび半導体工業の必要性を満たすために協力する。それにまた簡単な操作、高い制御ソフトウエアの両立性、高いシステム安定性および完全な警報録音機能の利点がある。特別なガス ホルダは信号の出力のためのネットワークか配線を支えることができる。ガス ポンプのキャビネットの制御システムはガス供給の間にすべての州を、ネットワークまたはハードウェアを通した中央制御にアップロードことができる操作の状態警報情報、圧力価値、等を含んで出力できる。ガス ホルダの制御システム（水素の制御システム）はネットワークによって操作の便利そして安全を高めるために遠隔に作動し、制御することができる。 特別なガスのシステム・プロジェクトは重要で、危ないプロジェクトであり、特別なガス ホルダは機能のほとんどと関連している中心装置である。特別なガス ホルダのない特別なガスのシステム・プロジェクトは不完全である。顧客が併合しにくい工程の便利な操作そして安全の問題を解決するのを助けるためにはWofeiの技術は製品品質から次第に難しさを突破される経営計画に広範囲の努力を、したり良質サービスの集合を、異なった適用シナリオに会い、微分のために適して達成したり、そして企業の生産性の成長を後押ししたワンストップ サービス解決。 企業のリーダーとして科学的な、科学技術の強さを改善するために、Wofeiの技術は企業の重要性よくに気づいている従って技術の投資の費用についてけちではない。長い間、Wofeiの技術は深く強力な支持として技術革新を取られる市場の需要を理解したり企業の、絶えず革新されたおよび改善された技術およびプロセスを培い、新技術のための次第に発展途上市場の要求に合わせるのに良質プロダクトおよび革新的な技術を使用した。 企業の急速な開発の時代では、より高い製品品質は中心の競争力を高める企業のための重要な要因である。Wofeiの技術はまた偽りなく質が企業の存続の礎石であり、安全が会社の開発の保証であることを確認する。Wofeiの技術は専門、責任があるおよび正直に専用され、高純度のガス産業の一流の上限の理性的なガスの輸送システムの積分器になることを熱望する。

パイプラインの交通機関は現代の5つの主要な兵站学の交通機関モードの1つである。それに交通機関の大量、継続、速度、経済、安全、信頼性、安定性、低い投資、小さい土地の職業、安価および自動制御の顕著な特徴がある。気候変動への全体的な応答の多数の背景の下の第12五ヶ年計画以来、オイルおよび天燃ガス、中国への中国の外的な依存の急速な増加によるエネルギー確保の中国の大気汚染制御および増加圧力の改善はエネルギー回転を実行することを提案した。その主な目的は総化石燃料の消費の成長率を減らし、次第に再生可能エネルギーの割合を高めることである。その中で、水素は多くの注意を引き付けた。ゼロ カーボンおよび高性能の新しいエネルギーとして水素エネルギーに、世界エネルギーの変形で、ますます顕著な適用価値がある。水素エネルギー工業（2021-2035年）の開発のための中期・長期の計画に従って、中国の水素エネルギーの企業の鎖は水素エネルギーの貯蔵および交通システムの安定した構造を含む大きい進歩を、する。       水素の交通機関の間隔に従って、水素の使用の条件およびユーザーの配分は水素の管および長い管のトレーラーを通して、高圧水素運ぶことができる。交通機関の大量および長距離の機会のために、パイプラインの交通機関は効率的な方法である。10年間以上ガス・パイプライン工学に焦点を合わせたWofeiの技術は多様なシナリオを通して水素の源の取得の技術的なモードにとっての重要性を付け、緑の水素および他の分野のプロジェクトの調査を遂行し、絶えずずっと固体ステップを作っている。水素エネルギーの供給の点では、会社は高い安全、高性能および高い信頼性の利点がある。それは高標準的な水素の貯蔵および交通システムを提供できる。安全の保障の前提で、それは質、量および供給を保障する。それは水素エネルギーの準備のためのインダストリアル・システムを、浄化、貯蔵および交通機関および水素エネルギーの供給と「水素貯蔵造ること、水素の交通機関および水素化」のの統合された水素のパイプラインのエンジニアリング・システムを造ることに努力している。       主プロセス システムおよび中心の精密装置のインストール時に全水素のパイプ・ライン・システムのプロジェクトの実施の間に、特に、Wofeiの技術は安全、質、進歩および費用の制御を常に維持し、パイプラインの関係、パイプラインの取付け、パイプラインの間隔、パイプラインの溶接、パイプライン電光保護、anti-corrosion、帯電防止の、パイプラインのガス抜きおよび他の安全問題のに絶えず払われた注意プロジェクトの成功の重要な役割を担う。     それは水素エネルギーの開発と、水素のパイプ・ライン・システムのための要求がこれからの十年にかなり増加すると期待されること予測することができる。中国の水素エネルギーの企業の下部組織の開発の青書に従って、2030年までに、中国の水素のパイプラインは3000キロメートルに達する。Wofeiの技術はこれに高い関心を払い、レイアウトを先立ってし、そして商機を捕獲する。それは完全な演劇を水素エネルギー工業の集められた経験に与え、水素エネルギーのパイプラインの交通機関の分野の研究の強さおよび科学研究のレベルおよび他の新しいエネルギー分野強化し、改善し続け中国のエネルギー変形および緑および低炭素の開発促進するための知恵そして提案提供する。

実験室の設計の過程において、ガス・パイプラインは通常含まれる。一般的な実験室のガスは可燃性ガス（窒素、二酸化炭素）、不活性ガス、可燃性ガス、非常に有毒ガスおよび燃焼の支持のガスから主に非成っている。従って、実験室の設計の過程において、場所の環境に従ってガス回路の取付けを、設計および選り抜き適切できれいなガス管およびガス弁考慮することは必要および異なったガスの条件、ガスの安全、純度および清潔のための実験室の必要性を満たす。但し、実験室のガス伝達の主内容の統一された技術的要求事項の欠乏におよび主標準およびいろいろ装置および設備のような他の装置システム、問題、および特別なモジュールの性能と装置のパイプライン弁間の不適当な組み合わせよる企業の急速な開発と次第に顕著になった。機構の設計、技術の実施、テスト評価およびより遅い使用および維持の大きい影響がある実際の配置の統一され、正確な指導の一時的な欠乏がある。ガスの応用システム工学で従事しているハイテクな企業としてWofeiの技術は長く実験室のガス・パイプラインのガス供給 システムのフル レンジを提供し、異なった実験のガスの使用条件そして安全に応じるために全面的な計画からのワンストップ完全なサービス、専門の設計、物質的な選択、専門の取付け、システム配達、技術的な相談、等を、提供する。高度装置およびハードウェア、実用的な設計、設置および維持のチームおよび豊富なプロジェクトの経験は半導体、集積回路、フラット パネル ディスプレイ、光電子工学、新しい材料、新しいエネルギー、光ファイバー、良い化学薬品、生物医学、さまざまな実験室および他の企業のパートナーによって会社を非常に信頼し、確認した作る。   実験室のガス・パイプライン システムは母線の中心にされたガス供給装置を採用する。それに二重びん（多びん）のための手動の、半自動およびフル オートマチックの切換えの機能がある。低圧警報装置がリアルタイムのガス圧力を、顧客の正常なガスへの需要および生命および特性の安全を保障するために集中監察することを、警報および排気を監視するために、装備する。さらに、ガス供給の制御システムを通って、シリンダーのガスは十分に使用することができる残りのガスは減らしガスの消費の費用は減らすことができる。さらに実験室の環境に従って機構を設計するために、Wofeiの技術は構造党に協力する。言うまでもなく、パイプラインおよびパイプラインのガス供給は複雑、複雑である。間違いおよび漏出を避けるためには、会社のデザイナーはデッサンの各ガス道の交差そして制御弁に印を付けた。実地調査によってガス道の設計に詳しく、信頼できるデータを提供するために、彼らは広範囲および組織的調査および分析遂行した。同時に、給油所の構造で、ガス ポンプ部屋の管理モードが給油所の安全を改善するのに使用されている。ステンレス鋼のコントロール パネルはガスの供給元管理のために使用され、ステンレス鋼 シリーズ弁、コネクターおよび他のプロダクトは伝達プロセスでパイプラインの関係のために使用される。将来、Wofeiの技術は実験室のガス回路の企業によって基づいた技術および実践経験の大規模な開発を単独で促進し、生態学的なパートナーに協力し、さまざまな企業でガスの交通システムの実施にテクニカル サポートを提供し続け産業安全の健康な開発を助ける。

  単段および二重段階のガス圧力調整弁ガス プロダクト シリンダーを使用するとき、プロセスができるだけ安全であることを保障する多くの有用な装置がある。特別な器械および作動装置の適切な事務レベルにシリンダー圧力を減らすことを試みれば圧力減り、調整弁は最も安全な方法である。シングルステージそのような仕事-および二重段階に使用する2つのタイプの調整装置がある。Wofeiの技術はあなたのためのシングルステージおよび二段式ガスの調整装置の細部を説明する。   単段の電圧安定器すべての圧力調整弁はより安全ににシリンダー圧力を減らし、作動装置および器械の使用レベルに提供するように設計されている。シングルステージのガスの調整装置が使用中のとき、1つのステップの配達および出口圧力にシリンダー圧力を減らすことができる。シリンダー圧力が使用の間に減ると同時にこのタイプの調整装置は配達圧力の変更とわずかに変わりがちである。このような理由で一定した出口圧力が要求されなければ特別な細部、シングルステージの調整装置を使用することはよい。安定した吸入圧を可能にする装置の圧力を、または監視し、再調整する誰か他の人があれば、また1つを使用できる。     2ステージの調整装置二段式調整装置は1つに2つの調整装置を結合するように設計されている。第一段階は中間設定に吸入圧を減らすことができ、調節可能ではない。但し、第二段階は調節可能で、最終的な配達圧力に中間圧力を減らす。従って二段式調整装置を安定した配達圧力を維持できること使用する主な利点の1つは規則的な調節のための必要性を避けている。これは第二段階の吸入圧に小さな変更だけあるので可能である。絶えず圧力を提供する必要があるガス供給、分析的な器械をおよび他の装置を必要とすれば二段式調整装置を必要とする。   ガスの調整装置の安全シングルステージおよび二段式ガスの調整装置についてのもう一つの鍵情報はそれらを安全に使用する方法をである。これらの要素のいくつかはそのようなガスのプロセス用機器を取付け、作動させるとき安全ガラスが身に着けられていることの保障のような基本的、である。調整装置が加圧されるか、または動く、調整装置の位置を変えるか、または取除くように試みてはいけない。汚染および1つのガス装置だけに各調整装置をなぜ割り当てるべきであるかの危ない混合についての不安がある。どのガスこれをか保障する1つの方法がどの調整装置がと使用されるか印を付けている。停止弁として決してガスの調整装置を使用するべきではない。ガスの流れが使用の後で実原始で常に閉まることを確認しなさい。  

半導体工業は高純度のガスのための要求がそれに応じて増加することを毎年育ち続ける従って意味する巨大で全体的な企業である。 高純度のガスの信頼できる供給をスマートな電話および自律性乗物のような先端技術の半導体の製造業のために必要、特にである持っていることは。 集積回路をガス1つのあらゆる企業で広く利用されたのの使用される範囲を作る作り出すプロセスは非常に複雑であり、30以上のガスの段階をまったく要求する。 ガスは半導体の電気特徴を形づけることを必要な化学反応を作り出すことができるので、半導体の製造業の重要な部分である。複雑さが原因で、製造工程の各段階で使用されるガスは正しく半導体を形成するために正確、正確である必要がある。 半導体工業の連続的な開発によって、プロセスで使用されるガスはまた成長している。使用される中心のガスの一部は窒素、酸素、アルゴンおよび水素を含んでいる。私達は詳細な製造工程に於いての彼らの役割を論議する。 窒素 供給およびinertnessの窒素が原因半導体の製造工程の各ステップで使用される中心のガスはであるが主な用途は清浄になる段階にある。この段階では、窒素がプロセスを汚染するかもしれない他のガスからそれらを保護するために機械および用具の酸素を取除くように各チャネルおよび管ネットワークを洗い流すのに使用されている。さらに、ほとんどの半導体の工場は全プロセスの窒素の大きい使用による場所の窒素の発電機が装備されている。需要が高いのに会うことを試みている間もっと重大に、ハイテクなsmartphonesおよび他の技術の生産と、要された低速を保つことは命令的である。窒素があらゆる潜在的な湿気からの用具、スペースおよび管、化学汚染物および粒子保つと言うことができる。場所に発電機をなぜ取付けるか当然ある、端へのプロセス中最初から使用されるのは必要なガスである。   酸素 知っているように、酸素はオキシダントである、従って沈殿反作用を作り出すことは必要である。拡散のマスクのようなプロセスのさまざまな要素のためのケイ素酸化物の層を、育てることを使用する。酸素が半導体の製造業のために使用されるとき、ガスはどの不純物でも装置の生産そして性能に影響を与えることを防ぐべき超高度純度でなければならない。エッチング プロセスの間に付加的で物質的な無駄を取除くのに、また酸素が発生した使用されている。またそれがエッチング パターン パーマを作るのに使用することができる。最後に、酸素はまた製品品質を変えるかもしれない酸化反作用によって反応ガスの中和を助ける。従って、窒素のように、酸素はまた汚染が起こらないことの保障を助ける。   アルゴン 沈殿のためにアルゴンが主に紫外石版印刷レーザーでエッチング プロセス使用され、半導体の破片で最も小さいパターンを作るのに使用されている。必須のシリコンの薄片の製造業の間に高温成長プロセスの間にウエファーで保護するのに、アルゴンのガスが形作られる酸素および窒素とのあらゆる潜在的な反作用からケイ素の水晶を使用されている。アルゴンはまた非常に不活性ガスであるので金属の放出させる沈殿に非反応環境を提供することを、使用する。時々金属の窒化物の形成をもたらす窒素の反応は余りに強い。さらに最も小さく、最も壊れやすい破片をきれいにするのに、用具によって液体のアルゴンが使用されている。   水素 半導体の製造業の水素の使用はより需要が高いが原因で増加するかもしれない。特に写真平版の段階で、化学錫と反応するのに水素が錫の水素化合物を作り出すために使用されている。錫の水素化合物はために高い光学要素で集まらないために要求される。それは焼きなましプロセスによってケイ素およびケイ素のゲルマニウムのエピタキシアル沈殿とまた生地ごしらえのために沈殿プロセスで使用される。水素が既存の薄膜を変更するために新しい酸化物の層を作成するのに使用されている。このプロセスは高圧および高温度の環境に起こる、従って流動度、温度および圧力の制御が非常に重要であることを意味する。さらにこのプロセスで使用されるガスが非常に有毒であるので、分解の制御を助けるのに添加の段階でも水素が使用されている。それらが漏出を防ぐことができる装置で貯えられる必要があるそう多数。Diboraneはまた添加プロセスで使用される化学薬品であるが熱不安定、原因でゆっくり分解する、従って水素はそれの安定を助けるように必要である。   日常生活の半導体 半導体はいろいろな種類の毎日装置、コンピュータ、smartphonesのテレビのようなとまた医療機器、軍用システムおよび他の多くの適用のような先端技術で、使用される。それらは私達の日常生活の一部分であり、私達が毎日使用する装置にあるので私達はそれらに気づかない。半導体なしで、私達は多くの事をされない。半導体技術の開発によって、それらはより信頼でき、理性的、にそして密集するようになる。コミュニケーションから、どんな半導体が私達のためにしたか交通機関および催し物は、これらのただの小さい部分である。それらは未来の技術および革新に動力を与え、私達が決して想像したあらないことは事をすることを私達が可能にする。

ホックは機械が実用性を送信する接続によって望ましい機能を達成することを可能にする。ホックは工場によって提供される機械に実用性を（水、電気、ガス、化学薬品、等のような）接続することであり、パイプラインを通した予約実用性の接続ポイントを通した付属品は（港か棒）ケーブルで通信する。 機械によってこれらの実用性が支払われるプロセス条件を満たすのに使用されている。機械が使用された後、機械によって発生する再生利用できる水か無駄は（廃水、不用なガス、等のような）パイプラインを通してシステムの予約接触に接続され、次に植物の回復システムか不用なガスの処置システムに送信される。接続のプロジェクトは主に下記のものを含んでいる:CADの移動、真空地震、穿孔機ガス、化学D.I、PCW、電気CWの明白下水管   専門知識の接続の基本的な理解にガスを供給しなさい 半導体の植物では、ガス・パイプラインのいわゆるホックはbuckgas （CDA、GN2、pN2、PO2、Phe、標準、H2、等のような概要のガス）の点では「sp1hookの上の」と呼ばれ、ガス供給の源のガス貯蔵 タンクの出口ポイントからのmainpipingによってmainpiping潜水艦への離陸ポイントは離陸の出口ポイントから機械（用具）または装置の入口ポイントにである「sp1hook」と、二次構成（sp2hook）と呼ばれて呼ばれる。specialtygas （腐食性、有毒な、可燃性、熱するガス、等のような特別なガス）のために、ガス供給の源はgascabinetである。g/cの出口ポイントからVMB （弁の主要な箱。）またはVMP （弁の主要なパネル）の第一次入口ポイントへのVMBまたはVMPの棒の二次出口ポイントから機械入口ポイントへのsp1hookと、および呼ばれるsp2ホックと呼ばれる。

  多様化させた理性的なガスの配分装置のフル オート標準的なガスの準備装置の二進混合物の釣合をとる人装置の主要なコンポーネントそして機能。     1. ガスの流れメートル:それはこのシステムの制御機構であり、行為は管理の構造によって直接制御。それは混合し、比例の主要部分である。2.圧力安定および圧力減少の制御弁:制御圧力および流れ、混合物圧力主要な圧力安定部品の。3.検光子:それはこの装置のテストのメカニズムで、比例のガスのパーセントの内容を表示する。（外面）4.転換弁:オン/オフ ガスを制御し、装置の操作を停止しなさい。5.圧力センサー:確認する圧力、上部および低圧の限界変数を調節するガスの混合物の、そして弁との圧力を検出しなさい6.混合タンク:混合されたガスのタンクを混合して、ガスの各方法を均等に混合しなさい。7.タッチ画面:表示実時間プロセス、ガスの配分変数、警報変数、等。8.電気組合せ:制御は装置を作動させるために、作業の流れおよび働く状態を表示装置。複数の理性的なガスの配分装置のフル オート標準的なガスの準備装置2要素のパッケージの混合されたガスの配分装置の構成およびシステム設計複数の理性的なガスの配分装置のフル オート標準的なガスの準備装置2要素によって内部に閉じ込められる混合されたガスの配分装置のガス供給の単位       原料のガスは高圧シリンダーの形で提供され、ガスは減圧の後で対応する入口に送られる。シリンダー ガスがガスの配分に必要な圧力範囲よりより少なくあるとき音および軽い警告は出され、装置および一定した圧力を大部分は比例させることの安定した操作を保障するために他のガスによって重圧の下で引き起こされる危険を避けるために可燃性のガス・パイプラインは一方通行弁が装備されている。上はWolflyによって導入されるガスのミキサーの働く原則そして技術特性である。私達は私達が参照を与えてもいいことを望む。     深圳沃飞科技有限公司是一家专门从事气体应用系统工程:电子特气系统の、の实验室气路系统の、の工业集中供气系统の、の大宗气体（液体）の系统の、の高纯气体及特种工艺气体二次配管系统の、の化学品输送系统の、の纯水系统提供从技术咨询の、の整体规划の、の系统设计の、の选定设备の、の预制组件の、の项目现场安装建设の、の整体系统检测の、の维护保养等全套工程技术服务和配套产品于一体的高新技术企业の。工程项目覆盖半导体の、の集成电路の、の平板显示の、の光电の、の汽车の、の新能源の、の纳米の、の光纤の、の微电子の、の石油化工の、の生物医药の、の各类实验室の、の研究所の、の标准检测等高科技行业;为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案;逐步成为行业先进的整体系统供应商の。公司拥有奥飞克（AFK®）の品牌、产品畅销于国内及海外26の个国家、并代理德国WITT （威特）の、の美国布劳宁の、のAtlascopcoの、の韩国MKPの质量流量计等品牌の。沃飞科技主要销售的产品有工业气体减压器の、の半导体减压器の、の调压阀の、の隔膜阀の、の波纹管阀の、の不锈钢阀门の、の卡套接头の、ビデオデッキの接头の、の不锈钢管の、の高压软管の、の阻火器の、の止回阀の、の过滤器の、の仪器仪表の、の气体探测器の、の分析仪器の、の纯化器の、の气体配比器の、の低温阀类の、の供气汇流排の、BSGSの、のGCの、GRの、VDB/Pの、VMB/Pの、のスクラバーの等各种气体相关设备和配件;为了追求更好品质并给客户提供更高更安全的技术、严格按照ISO9001の标准执行各项管理の。气体报警器:http://www.szwofei.com

  二進、比率の割合を保障するために混合されたガスの単一または複数のガスの集中の水素の検光子のオンライン監視と装備されている間ZUIの範囲の水素の検光子の分析の混合されたガスの割合を比例させる混合しか、ための輸入されたマス フローのコントローラーのコントローラーのガスの体積流量を使用してキャビネット水素窒素の混合装置を混合し、比例させる装置水素アルゴンのガスのミキサーの酸素アルゴンを混合し、比例させる自動ガスは調節自由に、簡単で、便利でおよび直観的な置くことができる。   自動ガスの混合の釣合をとる人の水素アルゴンのガスのミキサーの酸素アルゴンの混合の釣合をとる人水素窒素のガス混合装置の溶接のガスの混合物、ガスは溶接を保護したり、手動アーク溶接および水中に沈められたアークの自動溶接の広まった使用に基づいて開発された新しい溶接プロセスである。 現在、企業で一般的な溶接の保護のガスの混合物は3つの部門に大体分けることができる:二進混合物、三つ組み混合物および二次混合物。 頻繁に使用される二進混合物はAr彼、ArH2、Ar O2、Ar二酸化炭素、二酸化炭素、O2、N2、H2、等である;三つ組み混合物はAr彼二酸化炭素、Ar彼N2、N2、Ar彼O2、Ar O2、CO、等である;四基から成る混合物はより少なく使用され、Ar、彼、H2、O2、N2、二酸化炭素、等から主に作り出される。 各タイプのガスの混合物の部品の比率は溶接プロセス、溶接材料溶接モデルおよび他の要因によって決定するために変わり、主に結合することができる。 一般的により高い溶接の継ぎ目、より高いの質のための条件ガスの混合物を準備するのに使用される単位のガスの純度のための条件。ヨーロッパおよびアメリカでは、ガスの混合物に使用するAr、H2、N2および他のガスの純度は99.999%である、彼は99.996%才である、二酸化炭素は99.99%であり、湿気は通常有害な物質とみなされ、H20

  高純度のガス配管の技術は必須の高純度のガスを使用のポイントに提供し、まだ修飾された質を維持する主要な技術の高純度のガス供給 システムの重要な部分である、;高純度のガス配管の技術はシステムの正しい設計、付属品の選択および付属品、構造および取付けおよびテスト含んでいる。近年、純度のますます厳密な条件および大規模な集積回路によって表される高純度のガスのマイクロエレクトロニクス プロダクトの生産の高純度のガスの不純物内容は配管技術をますますかかわり、強調した作った。次は構造、また受諾および毎日管理の物質的な選択からの高純度のガス配管の簡潔な概要である。   タイプの共通ガス電子産業の共通ガスの分類:共通ガス（バルク ガス）:水素（H2）、窒素（N2）、酸素（O2）、アルゴン（A2）、等。専門のガスはSiH4、PH3、B2H6、A8H3、CL、HCL、CF4、NH3、POCL3、SIH2CL2 SIHCL3、NH3、BCL3、SIF4、CLF3、CO、C2F6、N2O、F2、HF、HBR SF6 ......等である。 特別なガスのタイプは腐食性のガス、有毒ガス、可燃性ガス、可燃性ガス、不活性ガス、等として一般に分類することができる。一般的な半導体のガスは一般に次の通り分類される。（i）腐食物/有毒ガス:HCl、BF3、WF6、HBr、SiH2Cl2、NH3、PH3、Cl2、BCl3…等。 （ii）燃焼性のガス:H2、CH4、SiH4、PH3、AsH3、SiH2Cl2、B2H6、CH2F2、CH3F、CO…等。 （iii）可燃性のガス:O2、Cl2、N2O、NF3…等。 （iv）不活性ガス:N2、CF4、C2F6、C4F8、SF6、二酸化炭素、Ne、Kr、彼…等。 多くの半導体のガスは人体に有害である。特に漏出が空気の酸素と激しく反応し、燃え始める限り、これらのガスの一部、SiH4自然発火のような;そして有毒なAsH3により非常にあらゆるわずかな漏出人命の危険を引き起こすかもしれないこれらの明らかな危険のためにそうなったものである、従ってシステム設計の安全のための条件は特に高い。   ガスの適用規模現代企業の重要な基本的な原料として、ガス プロダクトは広く利用されて、多数の共通ガスか特別なガスは冶金学、鋼鉄、石油、化学工業、機械類、電子工学、ガラス、製陶術、建築材料、構造、食品加工、薬および医学のセクターで使用される。ガスの適用にこれらの分野のハイテクノロジーの重要な影響が特にあり、不可欠な原料のガス プロセスである。さまざまで新しい産業部門の必要性とだけそして昇進および現代科学技術、ガス産業 プロダクトは変化、質および量の点では急速に開発することができる。 マイクロエレクトロニクスおよび半導体の企業のガス塗布ガスの使用は半導体プロセスの重要な役割を、特に半導体プロセス現在のmicro-electro-mechanical （ずっとずっとMEMS）企業にさまざまな企業で広く利用されている、従来のULSIから、プロダクトの製造工程としていわゆる半導体プロセスを使用するTFT-LCD常に担っている。ガスの純度に部品およびプロダクト収穫の性能の決定的な影響があり、ガス供給の安全は人員の健康および植物操作の安全と関連している。 高純度のガスの輸送の高純度の配管の重大さステンレス鋼の過程においてガスの200gについての材料を、溶かし、作ることは1トンあたり吸収することができる。ステンレス鋼の処理の後で、だけでなく、金属の格子のさまざまな汚染物と、しかし粘着性がある表面はまたまたある程度のガスを吸収した。気流がパイプラインを通ってあるとき、金属はガスのこの一部分を入力し直す純粋なガスを汚す気流を吸収する。管の気流が不連続流れのとき、管は解決するためにガス、および気流が渡ることを止めるとき管の形態によって吸着されるガスを圧力降下重圧の下で吸着し解決するガスはまたに純粋なガスを書き入れる   伝達および配分のパイプラインのための汚染防止技術の概要の概念運ばれるガスの3つの面のためのある特定の条件または制御があること平均の配管の非常に純粋で、きれいなガス ボディ伝達。 ガス純度:gGas純度の不純物の大気の内容:ガスの不純物の大気の内容は通常パーセントとしてのとして、また不純物の大気の内容PPMの容積の比率として、ppb表現された、ガス純度を、99.9999%のような、ppt表現した。乾燥:ガスの跡の湿気の量、か量は通常大気圧の露点-70のような露点の点では、表現された湿りを、呼んだ。C. 清潔:、含油率をカバーする圧縮空気のために、不可避の固体残余かの何mg/m3の点では通常また表現されて表現するべき、ガス、µmの粒度に含まれている汚染物の粒子の数、何particles/M3を。 汚染物質のサイズ分類:汚染物質の粒子は、主に、摩耗磨く、パイプライン金属の粒子、大気すす粒子によって発生する腐食を示す、また微生物、バクテリオファージおよびmoisture-containingガスの凝縮のしぶき、粒度のサイズに従う等は、に分けられるa）大きい粒子- 5μmの上の粒度 b) 粒子- 0.1μm-5μm間の物質的な直径 c) 超マイクロ粒子-粒度0.1μm以下。 この技術の適用を、高めるためには一組の特定の粒子の状態は参照に粒度およびμmの単位の知覚の理解にできるために提供される   次は特定の粒子の比較である名前の/Particleのサイズ（µm）の名前の/Particleのサイズ（µm）の名前の粒度のµmウイルス0.003-0.0のエーロゾル0.03-1エアゾール化されたmicrodroplet 1-12核燃料0.01-0.1のペンキ0.1-6のフライ アッシュ1-200カーボン ブラックの0.01-0.3の粉乳0.1-10の殺虫剤5-10樹脂0.01-1の細菌0.3-30セメントの塵5-100タバコの煙0.01-1砂の塵0.5-5花粉10-15シリコーン0.02-0.1の殺虫剤0.5-10の人間の毛髪50-120結晶させた塩0.03-0.5の集中された硫黄の塵1-11の海の砂100-1200