高い純度のガスの調整装置の最高と低流速率の違い:
高い流れの調整装置は普通1分（L /min）または1時間（mの³ /h）あたりの立方メートルあたりリットルのより高いガスの流動度を、通常扱うように設計されている。それに対して、低流速の調整装置は1分（mL/min）または1時間（L/h）あたりのリットルあたりミリリットルのより低いガスの流れの範囲のために適している、通常。
超高度純度のガスのための圧力調整器弁の設計:
弁の設計:高い流れの調整装置は普通より大きいガスの流れを扱うためにより大きい弁および道を使用する。これらの弁はより大きいピストン、ダイヤフラム、または他の流動制御要素が流れの精密な規則を達成するように要求するかもしれない。低流速の調整装置は、一方では、より低い流れの条件を収容するのにより小さい弁および道を使用する。
超高度純度のガスの圧力調整器の圧力範囲:
高い流れの調整装置に普通より広い圧力範囲があり、より高い入力圧力を扱い、より低い出力圧力に降りることができる。低流速の調整装置はより低い入力圧力のための比較的狭い圧力範囲があるそしてより小さい出力圧力範囲を達成するかもしれない。
超高度純度のガスの圧力調整器の外のり寸法:
より大きいガスの流れを扱うように高い流れの調整装置が要求されるので普通より大きい外のり寸法およびより重い重量がより大きい流体力学を収容するある。それに対して、小さい流れの調整装置はスペース強いられるか、または移動式適用のためにより密集し、軽量である場合もある。
超高純度のガスの圧力調整器のための適用の区域:
高い流れの調整装置は産業プロセス制御および大きい実験装置のようなガス供給の高い流動度を、要求する適用で一般的である。低流速の調整装置は実験室の検光子、科学研究、等のようなより低い流動度そしてより精密な制御を、要求する適用で使用される。
超高度純度のガスの圧力調整器の動作原理:
高い純度のガス圧力減力剤は普通調節可能な弁および圧力センサーを利用する。高圧ガスが圧力減力剤に入るとき、弁は自動的に一定圧力価値に基づいて望ましい出力圧力に圧力を減らすためにスイッチを調節する。
全体的にみて、高い純度のガス圧力減力剤は半導体の製造業、光電子工学、光起電企業、ナノテクノロジー、実験室の研究および高い純度のガスが要求される他の区域で広く利用されている。それらがガス圧力を制御し、特定のプロセスおよび実験条件を満たすために流れるのに使用されている。