中国 Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. 企業ニュース

1. ビデオデッキのガスの圧力調整器はどんなガスのために適しているか。 ビデオデッキのガスの圧力調整器は危険な、超高度純度のガスのために適している。   2. ビデオデッキのガスの圧力調整器が適している危険なガスは何であるか。 共通の危ないガスおよび関連情報は次のとおりである: アンモナル（NH3）:アンモナルは農業肥料、冷却剤、洗浄剤および工業プロセスで広く利用された共通の化学薬品である。 塩素（Cl2）:塩素は他の化学薬品の消毒、bleaching、水処理および製造のための一般的な化学薬品である。 二酸化炭素（二酸化炭素）:二酸化炭素は食品工業で、また溶接、消火および他の産業適用で炭酸塩化の代理人として使用される共通ガスである。 シアン化水素（シアン化水素）:シアン化水素は冶金学、有機性統合および殺虫剤の製造業で使用される非常に有毒ガスである。 硫化水素（H2S）:硫化水素は石油およびガス工業および他の工業プロセスで一般的な非常に悪臭のあり、有毒ガスである。 塩化水素（HCl）:塩化水素は刺激する臭気のガスで、化学薬品、クリーニングの金属および調整pHのレベルの製造で一般的である。 窒素（N2）:窒素は一般的な不活性ガス保護するためにおよびガスの原子格納容器および耐圧試験のための不活性の反作用の環境、またである。 酸素（O2）:酸素は医療産業、ガス切断、溶接および燃焼プロセスで一般的な必要なガスである。   3. ビデオデッキのガスの圧力調整器の特徴か。 高精度な規則:ビデオデッキのガスの圧力調整器は極めて正確なガス圧力規則を提供する精密な正規メカニズムを利用する。これはそれをガス流れおよび圧力の正確な制御が実験室の研究に、精密製造業およびガス分析のような、要求される適用に有用にさせる。 信頼性および安定性:長期安定したガスの規則のために設計されていて、ビデオデッキのガスの圧力調整器はさまざまな作動条件の下で信頼できる性能を提供することができる。それらは良質材料および技量を使用して普通長い一定期間にわたる信頼できる操作を保障し、漏出および失敗の危険を最小にするために組み立てられる。 多数の接続オプション:ビデオデッキのガスの圧力調整器はいろいろな接続オプションとふつう利用できる別のガス配管およびシステム要件を収容するために。共通の接続オプションはビデオデッキを金属密封し付属品、フランジを付けたようになった関係、および通された関係含んでいて、取付けおよび統合を適用範囲が広く、容易な調整装置のする。 広範囲調整能力:ビデオデッキのガスの圧力調整器に普通異なった圧力条件を収容する調整能力の広い範囲がある。高いですか低圧の規則は要求されるかどうか、それらは適切な解決を提供する。 安全特徴:ビデオデッキのガスの圧力調整器は頻繁にいろいろな安全特徴がシステムの安全な操作を保障するために装備されている。これらの特徴は重圧保護、過電流保護、過熱保護および潜在的な危険および事故の危険を最小にするために漏水検知を含むかもしれない。 調整能力:ビデオデッキのガスの圧力調整器は普通調節可能であり、特定の必要性に圧力を置き、合わせることをユーザーを許可する。この調整能力は調整装置を異なった適用シナリオおよびプロセス条件のために適したようにする。   4. ビデオデッキのガスの圧力調整器が組み立てられる環境か。 ビデオデッキのガスの圧力調整器は清潔を保障し、ビデオデッキのガスの圧力調整器の完全性そして性能の維持を助けるクリーン ルームで組み立てられる。   5. ビデオデッキのガスの圧力調整器がいかに働くかか。 調整装置へのガスの入口:ガスは接続ラインを通してビデオデッキのガスの圧力調整器に入る。入口は通常ガスの源に接続される。 圧力感知:調整装置の中で圧力感知要素、通常ばねかダイヤフラムがある。ガスが調整装置に入るので、圧力感知要素はガス圧力に服従し、対応する力を発生させる。 力のバランスをとること:圧力感知要素の力は調整装置の中の調整のメカニズムに対してバランスをとられる。このメカニズムは通常調整弁およびスプールから成っている。 調整弁操作:圧力感知要素の力によってシステムを貫流するガスの圧力を調節するために、調整弁はそれに応じて開くか、または閉まる。圧力感知要素の増加の力が、調整弁閉まる時、ガスの流れを減らし、こうしてシステム圧力を下げる。逆に圧力感知要素の減少の力が、調整弁開く時、ガスの流れを高めおよびシステム圧力を上げる。 圧力安定:絶えず弁の入り口を調節することによって、ビデオデッキのガスの圧力調整器はシステムを貫流するガスの安定した圧力を維持する。調整装置は必要に応じてリアルタイム以内にシステムのガス圧力が前もって決定された範囲の内に残ることを保障するために調節する。

半導体の製作では、ガスは仕事を完全にし、レーザーはすべての注意を得る。レーザーがケイ素に腐食のトランジスター パターンをする間、最初にケイ素を沈殿させ、完全な回路を作るためにレーザーを破壊する腐食は一連のガスである。それは多段式プロセスによってマイクロプロセッサを発達させるのに使用されているこれらのガスが高い純度でも不思議ではない。この限定に加えて、そのほとんどに他の心配および限定がある。ガスの一部は低温学である、他は腐食性であり、まだ他は非常に有毒である。   全体として、これらの限定は半導体工業のための製造のガスの配分組織にかなりの挑戦をする。材料仕様書は要求している。材料仕様書に加えて、ガスの配分の配列は相互接続システムの複雑な電気機械の配列である。組み立てられる環境は複雑、重複である。最終的な製作はインストール プロセスの一部として場所で起こる。より処理しやすい堅く、挑戦的な環境の製作をしている間高い指定のガスの配分の条件を満たす軌道溶接の助け。   ガスが半導体工業でいかに使用されるか   ガスの配分組織の製造を計画するように試みる前に半導体の製造業の少なくとも基本原則を理解することは必要である。中心で、半導体は非常に管理された方法の表面のほぼ元素固体を沈殿させるのにガスを使用する。これらの沈殿させた固体は付加的なガス、レーザー、化学etchantsおよび熱をもたらすことによってそれから変更される。広いプロセスのステップは次のとおりである:   沈殿:これは最初のシリコンの薄片を作成するプロセスである。ケイ素の前駆物質のガスは真空沈殿部屋にポンプでくまれ、化学か物理的な相互作用によって薄いシリコンの薄片を形作る。   写真平版:写真セクションはレーザーを示す。最も高い指定の破片を作るのに使用されるウエファーにマイクロプロセッサ回路部品をエッチングするのにより高く極度な紫外石版印刷（EUV）スペクトルでは二酸化炭素レーザーが使用されている。   エッチング:エッチング プロセスの間にシリコン基板で指定材料を活動化させ、分解するために、ハロゲン カーボン ガスは部屋にポンプでくまれる。このプロセスは効果的に基質にlaser-printed回路部品を刻む。   添加:これは半導体が行なう厳密な条件を定めるためにエッチングされた表面の伝導性を変える追加手順である。   アニーリング:このプロセスでは、ウエファーの層間の反作用は高い圧力および温度によって誘発される。基本的に、それは前のプロセスの結果を終了し、ウエファーで終了されたプロセッサを作成する。   部屋およびライン クリーニング:特にエッチングし、添加する前のステップで、使用されるガスは頻繁に非常に有毒、反応である。従って有害な反作用を減らしか、または除去し、それに与えるプロセス部屋およびガス管線は中和のガスで満ちていることを次に外の環境からあらゆる汚染のガスの侵入を防ぐために不活性ガスで満ちている必要がある。   半導体工業のガスの配分組織は頻繁に複雑な多くの異なったガスおよびそのうちに維持されなければならないガス流れ、温度および圧力の堅い制御のために複雑である。これはプロセスの各ガスに必要な超高度純度によって更に複雑になる。前のステップで使用されるガスはラインおよび部屋のプロセスの次のステップが始まることができる前に流し出されるか、または別の方法で中和しなければならない。これは溶接された管システムとホース間に多数の専門にされたライン、インターフェイス、ホースおよび管およびガスの調整装置間にインターフェイスおよびセンサーがある、また前に述べられた部品すべてと天燃ガスの供給のパイプラインの汚染が交換されることを防ぐように設計されている弁および密封システム間のインターフェイスことを意味する。   さらに偶然の漏出の場合に危険を軽減するために、クリーンルームの外面および専門のガスはクリーンルームの環境および専門にされた限られた区域のバルク ガス供給 システムが装備される。非常に複雑な環境のこれらのガス システムを溶接することは容易な仕事ではない。但し、注意して、細部への注意および右の装置は、この仕事首尾よく達成することができる。   半導体工業の製造のガスの配分組織 半導体のガスの配分組織で使用される材料は極めて変わりやすい。それらは非常に腐食性のガスに抵抗するためにPTFEが並ぶ金属の管およびホースのような事を含んでもいい。半導体工業で一般目的の配管に使用する共通材料は316Lステンレス鋼-低炭素のステンレス鋼の変形である。316Lに関しては対316、316Lは粒界腐食に対してより抵抗力がある。これはカーボンを腐食できる非常に反応および可能性としては揮発ガスの範囲を取扱うとき重要な考察である。溶接316Lステンレス鋼解放より少ないカーボン沈殿物。それはまた溶接および熱影響部の凹む腐食をもたらす場合がある粒界の腐食のための潜在性を減らす。   製品種目腐食および汚染をもたらす配管腐食の可能性を減らすためにはガスおよびタングステンのガスを保護する純粋なアルゴンと溶接された316Lステンレス鋼は溶接柵をである半導体工業の標準保護した。プロセス配管の高い純度の環境を維持するのに必要とされる制御を提供する唯一の溶接プロセス。自動化された軌道溶接は反復可能なプロセス制御半導体のガスの配分組織の製作の溶接を完了するために必要のだけ提供する。軌道溶接頭部を混雑させる収容できる囲んだおよびプロセス区域間の複雑な交差の困難なスペースはプロセスの重要な利点である事実。 シンセンWofeiの技術Co.、10年間以上の半導体、LED、ドラムおよびTFT-LCDの市場のための産業および専門のガス、材料、ガス供給 システムおよびガス工学の供給の経験の株式会社、私達は必要な材料を企業の最前線にあなたのプロダクトを持って来るのに与えてもいい。私達は半導体の電子専門のガスにだけでなく、弁および付属品の広い範囲を提供してもいいがまた私達の顧客のためのガス配管そして装置のインストールを設計する。

空気のダイヤフラム弁は適用範囲が広いダイヤフラムを作動させるのに液体またはガスの流れを制御するために圧縮空気を使用するタイプの弁である。弁はボディ、ダイヤフラムおよびダイヤフラムの動きを制御する空気アクチュエーターから成っている。 空気のダイヤフラム弁の働く原則: （1つの）空輸補給:圧縮空気はダイヤフラムに接続される弁の空気アクチュエーターに供給される。 （2の）ダイヤフラムの動き:空気アクチュエーターは気流の方向によってダイヤフラムを、上下に動かす。この動きは弁を開けか、または閉め、弁を通る液体またはガスの流れを許可するか、または制限する。 （3の）制御信号:空気アクチュエーターはアクチュエーターに供給される空気の量を調整し、こうしてダイヤフラムの位置を制御する外的なコントローラーまたは制御システムからの信号によって制御される。 （4の）フロー制御:ダイヤフラムの位置の調節によって、空気のダイヤフラム弁は弁を通る液体またはガスの流れを制御できる。ダイヤフラムが弁を通る開位置、液体またはガスの流れにあるとき、そしてダイヤフラムが閉鎖した位置にあるとき、流れは制限されるか、または停止する。   空気のダイヤフラム弁は信頼でき、有効なフロー制御が重大であるところに、いろいろな適用で一般的、化学処理を含んで、医薬品、食糧および飲料および水処理である。それらは維持の信頼性、耐久性および容易さのために知られている。

圧力は工業生産の重要な変数の1つである。圧力の正しい測定そして制御は工程のよい操作を保障し、良質、高い収穫、低消費および安全な生産を実現する重要なリンクである。従って、圧力の検出は関心をますます引いている。 1. 電気接触の圧力計は何であるか。 電気接触の圧力計は変化、完全なモデルおよび広い応用範囲のために草の根の口径測定器によって最も頻繁に連絡された圧力計の1つである。一般的な正確さのレベルはボイラー、圧力容器または圧力パイプラインの測定そして制御の1.0-4.0、特にである。通常対応するリレー、接触器および他の電気装置と共に圧力計が信号警報の測定された圧力システムそして目的の自動制御を実現するのに使用されている。毎日の使用の間に、圧力計に振動に、オイル、摩耗および腐食、等よるさまざまな時機を得た維持および口径測定を要求する問題がおよび機能不全がある。   電気接触の圧力計の働き原則か。 電気接触の圧力計は電気接触が装備されているばねの管の圧力計から成っている。現地の徴候に加えて限界を超過する圧力に信号を送ることを、また使用する。圧力測定の原則は測定された媒体の圧力の下の測定システム管にポインターの固定ギヤを通して対応する伸縮性がある変形（変位）を、作り出すためにばねの管の端を強制するであるダイヤルの徴候の測定値春に基づいている;同時に、対応する行為を（閉鎖したか開いた）自動制御警報および現地の指示の目的を達成するために作り出すように接触をようにオン/オフ回路の電圧制御システム運転しなさい。   3. 電気接触の圧力計の口径測定か。 電気接触の圧力計は実際に圧力計によって作動する回路スイッチである。それは電気接触シグナリング装置によって改装されるちょうど通常のばねの管の圧力計である。加圧部分の口径測定は通常の圧力計のそれと同じである。他の圧力計との相違は関係の後に反作用である。圧力の正確さの確認の、最初一見は、およびそれから関係の反作用の感受性を見る時。従って、証明は2つのステップに分けられる: （1）一般目的の圧力計の口径測定の価値の加圧一部分; （2）デモンストレーションの価値口径測定が修飾された後電気部分は、電気接触シグナリング装置重圧の下で目盛りが付き、関係の性能はマルティメーターと点検されるべきである。   4. 電気接触の圧力計の加圧部分の口径測定か。 比較方法は圧力計に目盛りを付ける共通方法である。標準圧力のゲージおよび測定された圧力計はピストン圧力計または圧力口径測定器の同じレベルで取付けられている。ピストンが加工液（変圧器オイル）で満ちて、後内部空気は排出される閉システムを形作るために、オイル コップの針弁は閉まる;突き出された加工液の圧力はピストン タイプ圧力計か口径測定器のピストンの手動ハンドルの回転によって変えることができる。加工液の油圧ドライブ、標準圧力のゲージおよび測定された圧力同時性および等しい変更である圧力計の同じレベル;標準圧力のゲージおよび示された価値を比較するために測定されるべき圧力計。  

電子専門のガスの工程は統合、浄化、詰物、分析およびテスト、混合および比例のような複数のプロセスが含まれている。純度および不純物内容のための下流の半導体の製造の条件を満たしてが、浄化プロセスは非常に重要である。上流の統合未加工ガスの構成によって、低温の蒸留か多段式浄化は行われる。   高い清潔の条件 電子特別なガスの準備プロセスは化学工程に属する上流の統合の準備および浄化の2つの主要なブロックに分けることができる。生産のパイプラインのサイズは大きく、特別な清浄度レベルの条件がない。下流の浄化の後で、プロダクトはガスで満ちて、準備のために混合される。生産のパイプラインは小さく、清浄度レベルの条件がある。それは半導体の製造工程の標準規格に合う必要がある。 高い密封の条件 化学活動が原因で、電子専門のガスはまた材料に高需要および工程システムの密封を置く。ちょうど半導体の製造業の条件のように、それは不純物の導入か特別なガスの腐食によって引き起こされるインターフェイス漏出を防ぐ。またシステムが不純物の導入か特別なガスの腐食によって引き起こされるインターフェイスの漏出を防ぐのに使用することができる。   良質の安定性の条件 電子専門のガスの質は純度および不純物の粒子の内容のようないくつかの表示器を含んでいる。表示器のどの変更でも下流の半導体の製造工程の結果に影響を与える。従って、表示器の安定性を制御するために電子特別なガス プロダクト表示器の一貫性を保障してが、準備プロセス システムはまた非常に重要である。     EGPの化学活動そして品質要求事項、EGPの準備のためのプロダクション システム、特に下流の浄化システムが原因で、高い純度材料、高いシーリング、高い清潔および良質の一貫性の条件を満たし設計された部品の構造は半導体の製造工業の標準に合わなければならない。 私達がとして一般に「参照する何高い純度」は論理上物質の純度の定義、高い純度のガスのような、高い純度の化学薬品、等のプロセス システムであるまたは高純度の物質に加えられるプロセス システム コンポーネントはまた、高純度システムおよび高純度弁のような高純度と言われる。電子専門のガスの準備システムは高い純度の適用付属品、弁および他の流動部品、高い純度材料およびきれいな製造工程と処理される要求し、容易な清浄になり、クリーニングのために構成される弁およびすなわち、付属品を。高い密封の性能を使って。これらの流動部品は半導体工業の工学および構造の条件を使用して適用のプロセス フロー道に、合うように設計されている。   高い純度のパイプ継ぎ手 ビデオデッキの金属のガスケットの表面シールの関係および自動ガイドのバット溶接関係は流れ道のスムーズな移行に会う機能による要求の流動システム純度プロセス条件で広く利用されていない関係、停滞の地帯で両方し、高いシーリングperformance.VCR関係は突き出ることによって比較的柔らかい金属のガスケット狭い表面シールを形作る。反復可能な、一貫した関係および密封の性能は変形させたガスケットが取除かれ、取り替えられるたびに保証される。   管は自動軌道溶接システムを使用して溶接される。管は高い純度のガスによって内側も外側も保護される。タングステンの電極は良質の溶接のための軌道に沿って回る。十分に自動化された軌道溶接は繰り返しthin-walled管を制御することによって良質の溶接を達成する他の材料をもたらさないで管を手溶接と達成しにくい溶かす。   ビデオデッキの金属のガスケットの表面シールの関係   管の自動軌道バット溶接の関係   高い純度弁 弁のシーリングの可燃性、爆発性、腐食性、および有毒な電子専門のガスの場所の高需要の化学活動。摩耗およびパッキング シールの変形による漏出を除去するために外的な漏出、金属のふいごを使用してシールまたは金属のダイヤフラム間のすなわち、弁茎の切換え操作およびバルブ本体を防ぐpackingless弁の密封の信頼性、条件を改善するため。ふいご密封され、ダイヤフラム密封された弁は弁のinternalsのシールおよびより容易なクリーニングおよびパージの取り替えのより大きい信頼性のために高純度の適用のためのプロセス システムで一般的である。   ふいご密封された弁は遅い開始および流れの規則を可能にするpackingless針弁の構造である。高い安全要求事項で安全流れの条件でまたは前駆物質の源のびんで満ちる電子専門のガスのために使用される。金属製の茎の先端のシールは極端に低い実用温度を可能にし、電子専門のガスの低温学の液化のために完成品タンクで配管のための低温学の蒸留の後で使用される。   Springlessダイヤフラムのシール弁は配達配管の自動的に管理された転換弁として1/4"使用のためのスナップ開いた弁である。それらは超高圧力、簡単な内部フロー道に、清浄になるおよび取り替え小さい内部容積よる高純度の適用および容易さで一般的である。   茎の先端によって閉まるダイヤフラム密封された弁はゆっくり開き、非はねたダイヤフラム密封された弁より高い作動圧力で使用することができる。それらは高圧電子専門のガスの詰物または前駆物質の源のびんで広く利用されている。   二次シールは-200度で超低い温度プロセス システムで弁をだけでなく、使用することができたりまた大気に防ぐ危険な媒体の漏出をどなるが。通常シランの満ちるシステムのような非常に危ない電子特別なガスのために、使用されて。   シンセンWofeiの技術Co.、10年間以上の半導体のための産業および専門のガス、材料、ガス供給 システムおよびガス工学、LED、ドラム、TFT-LCDの市場の供給の経験の株式会社、私達は必要な材料を企業の最前線にあなたのプロダクトを押すために与えてもいい。私達はだけでなく、半導体の電子専門のガスのための弁そして付属品の広い範囲を供給してもいい私達はまた私達の顧客のためのガス配管そして装置のインストールを設計してもいい。この区域で必要性があったら、0927023443で私達に連絡しなさい。  

専門のガスは頻繁に電子産業の活力源および半導体の製造業の中心として考慮される。全体的な専門のガスの市場は半導体の破片の製造工程の4つの主適用で使用され、私達が今日使用する技術の供給そして潜在性と直接関連している。 但し、ガスの使用は当然よく使用されるべきこれからのプロセスの関連の付属品そして装置のための必要性である;従って、はっきりWoflyの技術の主要な戦場の国内無数の実験室のプロジェクトを掃除しているガス・パイプラインのポーターとしてシンセンWoflyの技術、華為技術フォーチュン500社のようにが、非常に成長していたまた半導体のプロジェクトにサービスかプロダクトを提供する必要がある協力した。半導体のためにプロジェクトはサービスを提供する必要があるまたはプロダクトWoflyの技術はまた提供できる最も大きい助けWoflyの技術の特別なガス装置（特別なガスのキャビネット）のGCの特別なガスの証明書、また研究開発、（特別なガスの棚） GR、（バルブ・ボックス） VMB、（弁の版） VMPである;装置を混合し、比例させるガスに十分に自動化された混合されガスの比例したキャビネット、横の混合されガスの比例したキャビネット、装置、装置を混合し、比例させる複数の遠いガスを混合し、比例させるガスの2つの要素が等ある。すべてこれらは半導体工業に多大な助力を提供できる。 プロダクトを販売するWolflyの技術はガスと一致する、ガス供給装置の大ぞろいと装備することができる結局、工学は大いによりよい多くの会社よりこれの利点、である会社の大きい部分が両方のプロダクト プロダクトしか、Wolflyの技術買わないべきで、この道の工学が12年間、ずっと豊富経験であると言うことができる歩いていることが理解され。 、今Wolflyの技術が会社の、国か小さい評判の1つとして数えられないがが、私はこの企業の1日が将来小さい国際的な成功であることを信じる、結局、プロダクトの質はすべてを証明できる。

半導体の製作では、ガスは仕事を完全にし、レーザーはすべての注意を得る。レーザーがケイ素に腐食のトランジスター パターンをする間、最初にケイ素を沈殿させ、完全な回路を作るためにレーザーを破壊する腐食は一連のガスである。それは多段式プロセスによってマイクロプロセッサを発達させるのに使用されているこれらのガスが高い純度でも不思議ではない。この限定に加えて、そのほとんどに他の心配および限定がある。ガスの一部は低温学である、他は腐食性であり、まだ他は非常に有毒である。 全体として、これらの限定は半導体工業のための製造のガスの配分組織にかなりの挑戦をする。材料仕様書は要求している。材料仕様書に加えて、ガスの配分の配列は相互接続システムの複雑な電気機械の配列である。組み立てられる環境は複雑、重複である。最終的な製作はインストール プロセスの一部として場所で起こる。より処理しやすい堅く、挑戦的な環境の製造業を作っている間軌道はんだ付けする助けガスの配分の条件の高い指定に合うため。   半導体工業がガスをいかに使用するか ガスの配分組織の製造を計画するように試みる前に半導体の製造業の少なくとも基本原則を理解することは必要である。中心で、半導体は非常に管理された方法の表面のほぼ元素固体を沈殿させるのにガスを使用する。これらの沈殿させた固体は付加的なガス、レーザー、化学etchantsおよび熱をもたらすことによってそれから変更される。広いプロセスのステップは次のとおりである: 沈殿:これは最初のシリコンの薄片を作成するプロセスである。ケイ素の前駆物質のガスは真空沈殿部屋にポンプでくまれ、化学か物理的な相互作用によって薄いシリコンの薄片を形作る。 写真平版:写真セクションはレーザーを示す。最も高い指定の破片を作るのに使用されるウエファーにマイクロプロセッサ回路部品をエッチングするのにより高く極度な紫外石版印刷（EUV）スペクトルでは二酸化炭素レーザーが使用されている。 エッチング:エッチング プロセスの間にシリコン基板で指定材料を活動化させ、分解するために、ハロゲン カーボン ガスは部屋にポンプでくまれる。このプロセスは効果的に基質にlaser-printed回路部品を刻む。 添加:これは半導体が行なう厳密な条件を定めるためにエッチングされた表面の伝導性を変える追加手順である。 アニーリング:このプロセスでは、ウエファーの層間の反作用は高い圧力および温度によって誘発される。基本的に、それは前のプロセスの結果を終了し、ウエファーで終了されたプロセッサを作成する。 部屋およびライン クリーニング:特にエッチングし、添加する前のステップで、使用されるガスは頻繁に非常に有毒、反応である。従って有害な反作用を減らしか、または除去し、それに与えるプロセス部屋およびガス管線は中和のガスで満ちていることを次に外の環境からあらゆる汚染のガスの侵入を防ぐために不活性ガスで満ちている必要がある。 半導体工業のガスの配分組織は頻繁に複雑な多くの異なったガスおよびそのうちに維持されなければならないガス流れ、温度および圧力の堅い制御のために複雑である。これはプロセスの各ガスに必要な超高度純度によって更に複雑になる。前のステップで使用されるガスはラインおよび部屋のプロセスの次のステップが始まることができる前に流し出されるか、または別の方法で中和しなければならない。これは多数の専門にされたライン、ホース間の溶接された管システムおよびホース間のインターフェイスが、インターフェイスおよび管およびガスの調整装置およびセンサーある、および前に述べられた部品すべてと天燃ガスの供給のパイプラインの汚染が交換されることを防ぐように設計されている弁および密封システム間のインターフェイスことを意味する。 さらに偶然の漏出の場合に危険を軽減するために、クリーンルームの外面および専門のガスはクリーンルームの環境および専門にされた限られた区域のバルク ガス供給 システムが装備される。非常に複雑な環境のこれらのガス システムを溶接することは容易な仕事ではない。但し、注意して、細部への注意および右の装置は、この仕事首尾よく達成することができる。   半導体工業の製造のガスの配分組織 半導体のガスの配分組織で使用される材料は極めて変わりやすい。それらは非常に腐食性のガスに抵抗するためにPTFEが並ぶ金属の管およびホースのような事を含んでもいい。半導体工業で一般目的の配管に使用する共通材料は316Lステンレス鋼-低炭素のステンレス鋼の変形である。316Lに関しては対316、316Lは粒界腐食に対してより抵抗力がある。これはカーボンを腐食できる非常に反応および可能性としては揮発ガスの範囲を取扱うとき重要な考察である。溶接316Lステンレス鋼解放より少ないカーボン沈殿物。それはまた溶接および熱影響部の凹む腐食をもたらす場合がある粒界の腐食のための潜在性を減らす。 製品種目腐食および汚染をもたらす配管腐食の可能性を減らすためにはガスおよびタングステンのガスを保護する純粋なアルゴンと溶接された316Lステンレス鋼は溶接柵をである半導体工業の標準保護した。プロセス配管の高い純度の環境を維持するのに必要とされる制御を提供する唯一の溶接プロセス。自動化された軌道溶接は半導体のガスの配分だけで利用できる

不活性の性質が原因で、気体窒素はいろいろ清浄になること、カバーおよび洗い流す操作で使用することができる。含まれる独特な製造の必要性を満たすためにプロセスのタイプによって窒素純度の異なったレベルは必要となる。   窒素純度は何であるか。   窒素純度は不純物と比較される流れから取られるサンプルの窒素の現在のパーセント示すである。窒素は酸素、水蒸気、一酸化炭素および二酸化炭素のような汚染物への純粋なガスの比率に基づいて高いですか低純度ように分類することができる。   窒素の集中に基づくこの分類はあらゆる工業プロセスのための窒素の適合性の決定の重要な役割を担う。   高い純度対低純度窒素   窒素のサンプルの純度はそれの純粋な窒素のパーセント/集中によって定められる。高い純度として分類されるべきガスのために低純度窒素が普通不純物のより高いパーセントを含んでいる一方少なくとも99.998%窒素を含まなければならない。 高い純度窒素   99.998%の上の集中の気体窒素は高い純度の一部分として考慮される。高い純度窒素は異なった製造業者によって違った方法で等級別にすることができるが彼らは大抵「ゼロ等級」の一部分として考慮される。ゼロ等級の高純度窒素はそれらが百万ごとの0.5以下部の炭化水素の不純物を含んでいるのでそのように分類される。   高い純度窒素の他の主特徴は次のとおりである:   酸素濃度の≤ 0.5 PPM   一酸化炭素/二酸化炭素1.0 PPM以下   湿気すばらしくないより3 PPM   低純度窒素   90%の純度の窒素はへのわずかにより少なくより99.9%低純度と考慮される。   窒素純度の分類   純粋な窒素の分類は各々の低純度の等級内の数を使用して序列制度を通して達成される。各等級の最初の数は第2数は最後の9ディジットの後で数を表すが、その中で現われる「nines」の数を示す。   窒素の純度の等級はN2.0、N3.0、N4.0、N5.0、N6.0およびN7.0として分類される。   超高度純度窒素は何であるか。   超高度純度窒素は99.999%の集中および僅かな不純物が付いている窒素である。窒素の指定は厳しく、変化は分類を無効にする。   ガスは酸素の容積（ppmv）総炭化水素の容積百万ごとの2以上部、百万ごとの0.5部、および湿気の容積百万ごとの1部を含んではならない）。窒素は科学的な適用のために一般的である。   oxygen-free窒素は何であるか。   酸素の自由な窒素（OFN）は酸素の百万ごとの0.5以下部を（PPM）含んでいる気体窒素と定義されない。OFNのガスは99.998%純度で普通維持される。窒素のこの等級は酸素の不純物が結果を変えるか、または不正確な結果を引き起こすかもしれない科学研究および口径測定プロセスで使用される。 企業/適用による窒素純度のレベル   前述のように、異なった工業プロセスに必要な窒素の集中は非常に変わる。窒素の等級の選択の主考察は選ばれた適用に対する不純物の効果である。湿気への感受性、酸素および他の汚染物は考慮するべきキー ファクタである。   食品等級の窒素/飲料の等級窒素   窒素は食糧/飲料の生産、包装および貯蔵の異なったステップで一般的である。食糧オキシダントを除去し、味を維持し、そして悪臭を防ぐことによって食品包装および処理された食糧/飲料の保存性を維持するのに処理の窒素が使用されている。食品等級窒素に必要な純度は98-99.5%の範囲に普通ある。   薬剤の等級窒素   薬剤の製造工程は高い純度が最終製品の汚染そして変化を防ぐように要求する。多くの医薬品は97-99.99%間の純度の高い等級窒素を要求する。超高度純度窒素へのこの最高が窒素タンク、容器および他の薬剤の製造設備をカバーするのに使用されている。   新鮮さを維持し、有効成分の悪化を防ぐのを助けるのに薬剤包装でまた高い純度窒素が使用されている。   石油およびガス工業で95-99%純度の気体窒素がプロセスの間に火および爆発の危険を減らすのに使用されている。不活性ガス置換の気体窒素の助けを用いる化学貯蔵タンクそして内容の突然の燃焼の危険を最小にするために清浄になるパイプライン。   パイプラインの保守サービスは頻繁にパイプラインのクリーニングのために加圧プロセスを退役させる窒素およびパイプラインを使用する。   産業窒素の等級純度   ある産業適用および窒素の等級の条件は次輪郭を描かれる。   電子工学および半導体の製造業の等級窒素   電子工学および半導体の製造業の典型的な窒素の満足な条件は通常少なくとも99.99-99.999%である。きれいになる部品および付着力の適用範囲のようなあるプロセスは窒素（95-99.5%）のより低い集中を使用する。   等級窒素を製造するプラスチック   プラスチック統合のための窒素の等級の条件は射出成形のための95-98%、ガス助けられた射出成形のための99.5%、および膨らんだフィルムの放出のための98-99.5%である。   等級窒素を処理する金属   等級を処理する金属の窒素の内容は熱処理のための95-99%からレーザーの切断プロセスのための99-99.999%に、非常に変わる。   発電の等級窒素   95-99.6%範囲の窒素は空気シールの排出、ボイラー ライニング、天燃ガスのパイプラインの排出および水柔らかくなる上敷のような発電プロセスに要求される。

超高度純度のガスは半導体のサプライ チェーン中必要である。実際、典型的ですてきな、高純度のガスのために最も大きく物質的な費用自体はケイ素の後にある。全体的な破片不足の結果として、企業は高い純度のガスのためのより常におよび要求が増加している速く拡大している。 半導体の製造業の最も一般的なバルク ガスは窒素、ヘリウム、水素およびアルゴンである。   窒素   窒素は私達の大気より78%を構成し、非常に豊富である。それはまた化学的に不活性および非導電であることを起こる。その結果、窒素は費用効果が大きい不活性ガスとしていくつかの企業に方法を見つけた。 半導体工業は窒素の主要な消費者である。現代半導体の製造工場は1時間あたりの50,000立方メートルまでの窒素使用すると期待される。半導体の製造業では、窒素は一般目的の不活性ガス置換として空気の反応酸素そして湿気から敏感なシリコンの薄片を保護する清浄になるガス機能し。   ヘリウム   ヘリウムは不活性ガスである。これは、窒素のよう、ヘリウムが化学的に不活性であることを意味する-また高い熱伝導性の加えられた利点があるが。これは半導体の製造業に特に有用であり、効率的に高エネルギープロセスからの熱を行ない、熱損傷および不必要な化学反応からそれらの保護を助けるようにそれがする。   水素   水素は電子工学の製造工程中広く使用され、半導体の生産は例外ではない。特に、水素はのために使用される:   アニーリング:シリコンの薄片は高温に普通熱され、（アニールする）結晶構造を修理するためにゆっくり冷却した。水素が熱をウエファーに均等に移し、結晶構造の再建で助けるのに使用されている。   エピタクシー:超高度純度の水素はケイ素およびゲルマニウムのような半導体材料のエピタキシアル沈殿で還元剤として使用される。   沈殿:水素はケイ素のフィルムに原子構造をより不調にさせるために添加することができ抵抗を高めるのを助ける。   血しょうクリーニング:水素血しょうは紫外線石版印刷で使用される光源から錫の汚染を取除くことで特に有効である。   アルゴン   アルゴンはもう一つの第18族元素である、従って窒素およびヘリウムと同じ低い反応を表わす。但し、アルゴンの低いイオン化 エネルギーはそれを半導体の塗布に有用にさせる。イオン化の相対的な容易さのために、アルゴンは腐食のための第一次血しょうガスおよび半導体の製造業の沈殿反作用として一般的である。これに加えて、アルゴンは紫外線石版印刷のためにエキシマーのレーザーでも使用される。   純度の問題なぜ   通常、半導体技術の前進はサイズのスケーリングによって達成され、半導体技術の新しい世代はより小さい形状によって特徴付けられる。これは多数の利点をもたらす:ある特定の容積、改良された流れ、低い電力の消費およびより速い切換えのより多くのトランジスター。   但し、臨界の大きさの減少として、半導体デバイスはますます洗練されるようになる。個々の原子の問題、フォールト・トレランスの境界の位置が非常に堅い世界。その結果、現代半導体プロセスは最大級純度のプロセス ガスを要求する。 WOFLYはガスの応用システム工学を専門にするハイテクな企業である:電子特別なガス システム、実験室のガスの循環方式、産業中心にされたガス供給 システム、バルク ガス（液体の）システム、高い純度のガスおよび特別なプロセス ガスの二次配管システム、化学伝達システム、技術的な相談、全面的な計画、プロジェクトの場所の装置、プレハブの部品、取付けおよび構造、統合された方法の総合システムのテスト、維持および他の支持プロダクト選ぶシステム設計からの設計のフル セットをおよび技術援助および補助的なプロダクト提供する純粋な給水系統。

シンセンの華僑の企業家のシンク タンクの研究所、マレーシアChiu Chowの商工会議所および広東省Qidianのグループによって組織されて、「華僑企業家はクアラルンプール、表示の2,000以上の新しい中国の技術プロダクトとの6月16日から18日マレーシアの世界貿易センターで公平に2023年の（クアラルンプール）スマートな技術展覧会」の、握られる。6.24 - 6.26中国の展示者がタイのビジネスマンとスマートな技術プロダクトのための市場そして機会を論議するバンコクのスマートな技術の博覧会。 展覧会の間に、何百もの中国のスマートで新しいエネルギー プロダクトおよび技術は示される。中国およびマレーシアの方針そして市場によって運転されて、新しいエネルギー蓄積の商業化は巨大な商業開発スペースが加速して、ある。この展覧会は新しいエネルギー蓄積工業の最先端の傾向そして製品に関する情報を集め、企業パートナーが適した上下流の製造者を見つけるのを助ける。科学技術の変形の急務およびバイヤーの改善の従来の工場そして関連産業分野のために、この展覧会は魅力の完全、多くの安全であり、オートメーション装置、電子ガスのオートメーション システム、自動化された機械類および省エネ装置の製造者は展覧会、いろいろな種類のオートメーションを示すこと、精密および理性的な産業解決に現われる。 中国のよい評判の専門のガスの応用システムの積分器として、ビジネスはカバーする:超高度純度の電子特別なガス システム、実験室のガス システム、バルク ガス（液体の）システム、産業中心にされたガス供給 システム、特別なプロセス ガスの二次配管システム、化学伝達システム、技術的な相談、全面的な計画のシステム設計、指定装置、プレハブの部品、プロジェクトの場所の取付けおよび構造、総合システムのテスト、維持および他の完全なエンジニア リング サービス提供し、プロダクトを支える純粋な給水系統はプロジェクト半導体、集積回路、フラット パネル ディスプレイ、光電、新しいエネルギー、ナノ、光ファイバーを、マイクロエレクトロニクス、石油化学、生物医学的で、さまざまな実験室、研究所、標準的なテストおよび他のハイテク産業 フル セットを顧客にの与えるためにカバーする高純度媒体の伝達システム解決;次第に企業の一流の総合システムの製造者はなる。 この展覧会に、主要展示品国内独立した研究開発があり、マレーシアの市場の超高度純度BA/EPの等級のダイヤフラム弁、調整装置およびほぼ10年間の販売間東南アジアの市場の生産は、深い顧客の信頼テストする。同時に国内半導体および光起電企業の適用は顧客の大半確認され、尊重された。海外市場の中国の製造業のための輸入されたプロダクトを取り替えるために、新しい名刺を加えるためにまた良質の国産の最初の選択を実現しなさい。 現地の顧客はプロダクトに非常に高い注意を、オルガナイザー インタビューした場所、氏のWofeiの技術に払った。彼はマレーシアで製品市場およびレポーターにベルトおよび道の戦略的なルートを記述し、海外市場に信任を表現する私達のプロダクトの価格そして質で詳しく説明した。インタビューは関連した媒体でそれから報告された。 東南アジアおよびロシアのWoflyiの技術プロダクトは多くの顧客をのような、より詳細な理解受け取った、海外顧客は中国に訪問し、交換することを来た。 ロシアの顧客のグループの写真   フーナンの枝のマレーシアの顧客のグループの写真 従って、Wofeiは各適用シナリオの安全そして信頼性を保障するために各々の高い純度のガス弁の付属品のあらゆる細部をするための人一倍の努力を作る。高い清潔と同様、ビデオデッキは付属品、二次弁の付属品、水素エネルギー弁、等をマイクロ溶接した;特別なガス装置および付属品（GC/GR/VMB/VMP/VDB/VDP/gasの流しの切換え装置）はこの展覧会で、特定の細部多くを学ぶためにWolfeiの技術の公式のウェブサイトを捜すことができる表わされる。

AFKLOKは技術およびプロダクトの電子半導体の高速開発、広範囲の表示、5/16-18シンセンの国際的な半導体展覧会16C051の第三世代をおよび助ける従って訪問する!   第5シンセン インターナショナル半導体技術および適用展覧会あった公式に開けられてで5月16でシンセン国際大会および展示場（Baoan新しいホールの）/ホール14及びホール16。半eシンセンの半導体展覧会は半導体の企業、企業の基幹技術そして開発傾向の焦点の分野に深く沈み、広東省、香港およびマカオより大きい湾区域の国際的な競争力の現代インダストリアル・システムの構造に専門および上限の産業生態学的な交換プラットホームを造ることによって貢献する。 主全国開発工業として、半導体工業は活気づいて、包装の質の安定性の保障によるだけ半導体製品の工程で、私達は集積回路の最終的な収穫そして信頼性を保証してもいい。高度の生産ラインのための必要性に加えて、包装の質を、破片および部品の包む開発そして生産は両方保障するため安全な、信頼できる電子特別なガス システムから分離不可能である。   技術的な相談からのハイテクな企業の統合のエンジニア リング サービスとしてそして支持プロダクト、全面的な計画、システム設計、指定装置、プレハブの部品、プロジェクトの場所の取付けおよび構造、総合システムのテスト、維持および他のエンジニア リング サービスのAFKLOKの技術は顧客にを与えることができる:電子特別なガス システム、実験室のガスの循環方式、産業中心にされたガス供給 システム、バルク ガス（液体の）システム、高純度のガスおよび特別なプロセス ガスの二次配管システム、化学交通システム、純粋な給水系統および他のガス塗布のプロジェクト。AFKLOKの技術に弁の付属品を設計するガス配管で優秀な設計および製造の経験がある従ってブランドの評判、製品とサービスは一貫して激賞を収獲した。 特別なガス システムは特別なガスの安全使用を保障するのに使用されるシステムである。それは半導体、電子工学、液晶の、光起電および太陽電池工業、等の分野で使用される。半導体工業の工程は重大であるが、特別なガスのほとんどはであるSiH4、NF3、等のような危ないガス、…従って、特別なガスの安全使用を保障することは特別なガス システムの意味である。特別なガス システムは3部から成っている:特別なガス装置、特別なガス・パイプラインおよびターミナルおよび特別なガスのキャビネットは特別なガス システムの中心装置である。   AFKLOKの別の版が付いているシステム表示そして設定のためのタッチ画面が付いている主制御ボディとしてPLCが付いているフル オートのガスのキャビネットは、太陽エネルギー、半導体の企業の必要性を満たすように設計し次のものを持っている:制御ソフトウエアの簡単な操作、高い両立性、高いシステム安定性、完全な警報記録機能、等。特別なガスのキャビネットはネットワークを支えることができるまたはガスを出力に信号を送る2つの方法をワイヤーで縛ってガス ポンプのキャビネットの制御システムはすべての状態、操作の状態警報情報、圧力価値、等を含んで供給するときである場合もあったり中央制御にネットワークかハードウェアによってアップロードことができる。ガスのキャビネットの制御システム（水素の制御システム）はネットワークによって遠隔に作動し、制御することができ操作の便利そして安全を高める。 特別なガスの体系工学は重要であり、危ないプロジェクトは、特別なガスのキャビネット機能のほとんどの中心装置、特別なガスの体系工学である特別なガスのキャビネットなしで不完全である。製品品質からの経営計画に難しさを、次第に難しさを、良質のサービスの集合を突破するための、広範囲の努力をするために結合すること困難な操作上の便利および安全問題を解決するのを工程の顧客の大半が助けるAFKLOKの技術企業の生産性の成長の微分のために、適した異なった適用シナリオにワンストップ サービス・プログラムを提供するように達成するため波を押すために会うように。   AFKLOKは独自に調整装置を開発した、ダイヤフラム弁はさまざまな分野で使用され、顧客によって尊重される。長い間、AFKLOKの技術は市場の需要を深い理解、技術的な革新を企業を培う、絶えず革新するおよび良質プロダクトおよび革新的な技術の新技術のための次第に発展途上市場の要求に合わせる技術およびプロセスを改善する強力な支持として取る。 企業の急速な開発の時代では、より高い製品品質は中心の競争力を高める企業のための重要な要因である。Wofeiの技術はまた偽りなく質が企業の存続の礎石であり、安全が会社の開発の保証であることを確認する。Wofeiの技術はプロ精神、責任および完全性に専用され、高純度のガス産業の一流の上限の理性的なガスの伝達システム積分器になるために定められる。  

私達は流動制御でAFKLOK 2のフェルールの圧縮の管継手を提供するために喜ぶ。これらの非常に適用範囲が広い管継手はいろいろな直径および防蝕材料入って来、驚くべきleak-freeカップリングを提供し、そして非常に調節可能である。 Afklokの管継手 WoflyのAfklokの管継手は器械使用、プロセスおよび制御および検光子含む適用のための信頼できるleak-free関係を提供するためになされる。これらのtubefittingsは良質の標準にいろいろなサイズ、防蝕材料および組合せ入って来ために作り出され。 製造業者からの管継手のAfklokのコレクションは標準として熱コードたどることができる316ステンレス鋼から成っている。6Mo、合金825、合金625、および合金C-276はより多くの材料である。曲げられたボディが近い穀物の鍛造材から機械で造られる間、まっすぐな付属品はcold-finished棒在庫から作り出される。 管継手は2"への1/16から」及ぶ帝国サイズO.D.および2つのmmから25のmm O.D.まで及ぶメートル サイズ入って来。 1) 管への男性の管。 2) 女性の管への男性の管 3) 管は一緒に結合した。 4) 港のための関係。 5) 37でA-LOKに（）急に燃え上がりなさい。 6) 管のシールへのOリング 7) 管に溶接されるシステム。 8) 分析のための付属品。 9) とげがある付属品。 Woflyはあなたの順序を保証するのを助けることができる。 Woflyは中国の良質の器械使用および圧力制御装置の製造会社であり、例えばブランドAFK、Afklok、Woflyを所有する。 呼出し+86-755-27919860はあなたの付属品すべてについて流動制御専門家と話すためにまたは電子メールをinfo@szwofly.comに送るためにすぐに必要とする。