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商品の詳細:
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| 媒体の温度: | 正常な温度 | 左舷サイズ: | 4" |
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| 製品名: | 吸着尾ガスの処置装置 | 適当な環境: | 半導体、液晶、 |
| 適用: | 半導体、液晶、 | 媒体: | ガス |
| ハイライト: | 吸着タイプ尾ガスの処置装置,半導体の尾ガスの処置装置 |
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WFS-100Fの吸着尾ガスの処置装置
スクラバーの尾ガスの処置装置によって扱うことができるガスのタイプは半導体にエッチング プロセスおよび化学気相堆積プロセスで使用される電子ガス、SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、Co、NF3、SF6、C2F6、wf6、NH3、N2O、等を含む液晶および太陽企業を、主に含める
プロダクト変数
| 1 | 機械モデル | WFS-100F |
| 2 | ごしごし洗うタイプ（タイプのガスの処置の主義） | 化学吸着 |
| 3 | 容量（最高のガスのプロセス フロー） | 17CMM （1000CMH） |
| 4 | 次元（mm）機械サイズ | 800 （L）*800 （H） W）*1200 （ |
| 5 | 力 | 1Ψ、220V 50/60HZ 20A |
| 6 | システム入口 | ISO-100 （4"管） |
| 7 | システム出口 | ISO-100 （4"管） |
| 8 | 出口（機械キャビティの排気ポートの次元） | 4"管、100CFM |
扱われるべきタイプのガス
| プロダクト | ガス タイプ | |
| 酸ガス | ACシリーズ | BF3、HF、F2、WF+、SiF4.ect |
| ガスを含んでいる水素化合物か金属 | Hmシリーズ | PH3、AsH3、GeF4、B2H6のect |
| ハロゲンで処理されたガス | Baシリーズ | NH3、Na （オハイオ州）、ect |
| 窒化物のガス | NTシリーズ | NH3、TDMAT、HCW、N2O、いいえ、NO2、窒素化合物のect |
| 有機性ガス | Ocシリーズ | SiH4、DCS、TCS、TEOS、DEZ、PGMEAのect |
| 硫化ガス | SLシリーズ | H2S、H2Seのニ酸化硫黄、ect |
プロジェクトの場合
実験室の空輸補給システムの利点
1. ガス純度を維持しなさい
2. 途切れないガス供給:システムはガス ポンプの間で手動で転換し、自動的に連続的なガス供給を保障できる
3. 低圧警告:空気圧が警報限界より低いとき、警報装置は自動的に警報を始めることができる
4. 安定したガス圧力:システムは非常に安定した圧力を得ることができるガスを供給するのに二段式減圧を使用する
5. 高性能:ガス供給の制御システムを通してガス貯蔵の差益を減らし、ガスの消費のコストを削減するのに、ガス ポンプのガスが十分に使用することができる
6. 容易な操作:すべてのガス ポンプはおよび設置処理の操作をおよび救う時間および費用減らす同じ位置で貯えられる
次は実験室のガス供給の取付けのプロジェクトの図表である
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FAQ
1. 私達はだれであるか。
私達は広東省、中国、2011年からの開始、東南アジア（20.00%）への販売法で、アフリカ（20.00%）、東のアジア（10.00%）、中間の東（10.00%）、国内市場（5.00%）、南アジア（5.00%）、北欧（5.00%）、中央アメリカ（5.00%）、西ヨーロッパ（5.00%）、南アメリカ（5.00%）、東ヨーロッパ（5.00%）、北アメリカ（5.00%）基づいている。私達のオフィスに総約51-100人がある。
2. 私達はいかに質を保証してもいいか。
大量生産の前の試作期間の常にサンプル;
郵送物の前の常に最終検査;
3.whatは私達から買うことができるか。
圧力調整器、管継手、電磁弁、針弁、逆止弁
4. なぜ他の製造者からの私達からない買うべきであるか。
私達は専門エンジニアおよび熱心なtechnicians.canの二三年があなたに保証プロダクトを提供するのを過す
5. 私達はどんなサービスを提供してもいいか。
受け入れられた出荷条件:FOB、CIF、EXW;
受け入れられた支払の通貨:米ドル、CNY;
受け入れられた支払のタイプ:T/T、L/C、ウェスタン・ユニオン;
話されている言語:英語、中国語
コンタクトパーソン: Info
電話番号: +8613430639757
