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商品の詳細:
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| 適用: | 概要 | 材料: | ステンレス鋼 |
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| 圧力: | 高圧 | 媒体の温度: | 中型の温度、正常な温度、低温 |
| 媒体: | ガス、空気 | 左舷サイズ: | 標準 |
| 標準的なか標準外: | 標準 | 保証: | 1年 |
| ハイライト: | セリウムPTFEのステンレス鋼のガス フィルター,15L/ 最低のステンレス鋼のガス フィルター,15Mpa高圧ガス フィルター |
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ガス フィルター
| 高い純度のガス システムで使用されるガス フィルターは衝突、拡散および遮断のメカニズムに従ってガスの粒子をフィルタ・アウトする装置である。メガビットのレベルへの集積回路の開発によって、超きれいのためのより厳密な条件は提言される。 半標準に従って、10011の等級窒素の2011lmパイプラインによって供給される粒子およびアルゴンは014のLよりより少しである;粒子> 16mdramガスの011lmの数は1つのL.よりより少しである。 超高度純度のガスか電子ガス供給 システムでは、振動または気流の影響によって引き起こされる落ちる粒子を取除くためにフィルターは弁および付属品の下流にそしてガスを使用する前に取付けられているべきである。 粒子フィルターの選択そして指定はガス制御の指定によって決まる。フィルターの貝は316ステンレス鋼から成っている。濾材は多孔性の金属の濾材の、防蝕および耐熱性ニッケルの基礎合金、100%のニッケル合金、アルミニウム陶磁器、Tefloを焼結させた |
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製品の機能
| 広い応用範囲、15からの300SL/分への流れの範囲 それはほとんどの高い純度の半導体プロセス ガスと互換性がある。 高い流れの効率、ultra-small圧力降下を維持する3 nanoparticleのろ過容量。 5Raは表面を内部汚染を防ぐことができるelectropolished。 脱イオンされた水とのクリーニングの後で半導体プロセス標準に合うことを、熱い窒素と焼く。 百万ほこりのない無菌研修会の製造業、クリーニングおよび包装の環境。 テスト100%のヘリウムの漏出。 |
製品性能変数
| ろ過正確さ | ≥0.0025μm | |
| ろ過効率 | 取り外しrate99.99999%≥0.0025μm | |
| 評価される流れ | 15L/Min | |
| 60L/Min | ||
| 120/Min | ||
| 200Min | ||
| 300Min | ||
| フィルター構成 | 濾材 | 316/PTFE |
| 貝 | ステンレス製steel316L | |
| 労働条件 | 入口の最高圧力 | 21Mpa （310kgf/cm2） |
| 最高の差動圧力 | 15Mpa（153kgf/cm2） | |
| 最高の働く温度 | 430℃ （不活性ガス） | |
| ヘリウムの漏出率 | 1x10-9atm cc/sec | |
| 表面の終わり | ≤Ra 5μm | |
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パッキング及び配達
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